Tungsten Titanyum Püskürtme Hedefleri

Tungsten Titanyum Püskürtme Hedefleri:

Tungsten Titanyum Püskürtme Hedeflerimiz, en ileri toz metalurjik üretim teknikleri kullanılarak üretilmektedir. Çapı 400 milimetreye kadar olan çeşitli boyutlarda WTi püskürtme hedefleri sunuyoruz. Hem döner hedef hem de düzlemsel hedef olarak WTi'yi yaratan ilk üreticiler arasındayız. WTi hedeflerimizin titanyum içeriği genellikle ağırlıkça %10'dur.

Tungsten-titanyum Püskürtme Hedefleri

Tungsten-titanyum alaşımı

Tungsten-titanyumun uygulama alanları:
Ağırlıkça %10 titanyum içeren tungsten-titanyum (WTi), mikroçiplerde metalizasyon tutkalı ve difüzyon bariyeri olarak kullanılır. Bu durumda WTi, bakırın silikondan veya alüminyumun silikondan olması gibi metalizasyon ve yarı iletken katmanları ayırmak için kullanılır. Difüzyon bariyerleri olmasaydı, silikon ve bakır birleşerek mikroçiplerde intermetalik bir faz oluştururdu ve bu da yarı iletkenin performansını tehlikeye atardı. Demir iyonlarının molibden arka temasından yarı iletkene yayılmasını durdurmak için esnek ince film güneş pillerinde (CIGS) bir WTi bariyer katmanı kullanılır. CIGS güneş pillerinin verimliliği, birkaç g/g demir kadar bile büyük ölçüde azaltılabilir.

a.Toz metalurjisi, yarı iletken ve ince film güneş pili üretiminde yaygın olarak kullanılan tungsten titanyum püskürtme hedeflerini oluşturmak için kullanılır.

b.WTi10wt% ince film, yarı iletken uygulamalarda metalizasyon katmanlarını yarı iletkenden, örneğin bakır veya alüminyumun silikondan izole edilmesi için bir yapışma katmanı ve difüzyon bariyeri olarak kullanılır. Sonuç olarak mikroçiplerdeki transistör işlevi büyük ölçüde geliştirilebilir.

c.WTi10wt% ince film, demir iyonlarının çelik alt tabakadan molibden arka temasına ve CIGS yarı iletkenine yayılmasını durdurmak için bir bariyer tabakası olarak ince film güneş pillerinde de kullanılır. Tungsten titanyumdan yapılmış hedefler aynı zamanda aletleri ve LED'leri kaplamak için kullanılır. .

İki şekilde, soldaki bir CIGS güneş pilinin şematik yapısının altında WTi katmanları kullanan bir flip çip yarı iletken metalizasyonu gösterilmektedir.

Kaplama maddesinin saflığı arttıkça tabakanın kalitesi de artar. En yüksek seviyede malzeme saflığını sağlamak için yalnızca en saf tozu kullanıyoruz ve başlangıçtan itibaren kendi tesislerimizde karıştırıyoruz. Tozdan bitmiş ürüne kadar her aşamayı yakından takip ederek yalnızca kesin olarak garanti edilen yoğunluğa, saflığa ve homojen mikro yapıya sahip hedeflerin tesisimizden çıktığından emin oluyoruz.

Fabrikamız WTi 90/10wt%, WTi 85/15wt% ve kişiselleştirilebilen özel bileşimli Tungsten Titanyum Püskürtme Hedefleri ile hedef üretme kapasitesine sahiptir. Gerçek hedeflerin yoğunluğu >%99'dur ve tipik tane boyutu 100um'dur. Son kullanıcılar, 4N5'e kadar saflık ve özel tavlama işlemi, tekdüze tane boyutu ve azaltılmış gaz içeriği ile PVD işlemi sırasında sabit erozyon oranlarına ve yüksek saflığa ve homojen ince film kaplamaya ulaşabilirler.

Herhangi bir ihtiyacınız veya sorunuz varsa lütfen bizimle iletişime geçmekten çekinmeyin.

 

 

BİZE ULAŞIN

Satış Müdürü:

İletişim: Li Fengwu

Email: kd@tantalumysjs.com

Tel: 13379388917

Faks: 0917-3139100

Posta kodu: 721013

Web: https://www.tantalumysjs.com/

Ekle:Wenquan köyü Sanayi Bölgesi, Gaoxin Geliştirme Bölgesi, Baoji Şehri, Shaanxi Eyaleti, Çin

Popüler Etiketler: tungsten titanyum püskürtme hedefleri, tedarikçiler, üreticiler, fabrika, özelleştirilmiş, satın al, fiyat, teklif, kalite, satılık, stokta