Tungsten Püskürtme Hedefi

Tungsten püskürtme hedefleri yapmak için kullanılan yüksek saflıkta tungsten metali tipik olarak kırılgandır ve üzerinde çalışılması zordur. Tungsten sertliğini (birçok çeliğinkinden daha fazladır) koruyabilir ve çok saf bir malzemeye dönüştürülürse işlenmesini kolaylaştıracak kadar sünekliğe sahiptir. Dövme, germe veya ekstrüzyon işlemlerinden geçer. Tipik olarak sinterleme, tungsten nesneleri oluşturmak için de kullanılır.

Tungsten, saf haldeki tüm metaller arasında en güçlü gerilme mukavemetine, en düşük buhar basıncına (1650 derece, 3000 derece F'yi aşan sıcaklıklarda) ve en yüksek erime noktasına (3422 derece, 6192 derece F) sahiptir. Tüm saf metaller arasında tungsten en düşük termal genleşme katsayısına sahiptir. 5d elektronları tarafından tungsten atomları arasında oluşturulan güçlü kovalent bağlantılar, tungstene düşük termal genleşme, yüksek erime noktası ve büyük gerilme mukavemeti verir. Tungsten onunla mütevazı miktarlarda alaşımlandığında çelik önemli ölçüde daha dayanıklı hale gelir.

Çeşitli formlarda ve saflıkta tungsten püskürtme hedeflerinin üretimi, çoğunlukla yarı iletken ve mikro elektronikte kullanılan Yusheng Metal'in bir uzmanlığıdır. TFT-LCD ekranlarda kullanılan ince film transistörlerin bir parçası olan tungsten katmanları, tüm metaller arasında en yüksek erime noktasına sahip olması nedeniyle yüksek sıcaklıklı ortamlarda inanılmaz derecede kararlıdır. Eşsiz biçimlendirme tekniklerimizin bir sonucu olarak hedeflerimiz daha yüksek yoğunluğa, daha düşük ortalama parçacık boyutuna ve daha yüksek saflığa sahip olup, daha yüksek püskürtme hızları sayesinde daha hızlı bir işlemden yararlanmanıza ve çok homojen tungsten katmanları üretmenize olanak tanır.

Esnek üretim tekniğimiz, gerekli sonucu elde etmek için mikro yapıyı değiştirmemize izin verir. Püskürtme hedefinin tanecikleri düzgün bir şekilde hizalanırsa, kullanıcı sabit erozyon oranlarından ve homojen katmanlardan yararlanabilir. 100 m tipik tane boyutudur.

Bir metal püskürtme hedefi mükemmel kimyasal saflığa sahip olmalıdır çünkü bu, PVD işlemi sırasında daha yüksek elektriksel iletkenliğe ve azaltılmış parçacık oluşumuna sahip filmlerle sonuçlanacaktır. 3N5 tungsten hedefi için tipik Analiz Sertifikası aşağıda verilmiştir.

Analitik teknikler:

1. Metalik elementleri incelemek için GDMS ve ICP-OES kullanıldı.
2. LECO, gazın bileşenlerini inceledi.

Malzeme hazırlama, sinterleme ve kimyasal analiz, tungsten püskürtme hedefinin hazırlanmasındaki adımlardır. Haddeleme, tavlama, metalografik inceleme, imalat, üç boyutlu inceleme, temizleme, son inceleme, paketleme ve sevkiyat

Tungsten püskürtme hedefi ve hazırlama tekniği
Yüzde 99,95'in üzerinde saflık, 2,2–2,6 mm, 5–10 dakika soğuk izostatik presleme, 2300–2400 derece, 8–12 saat ara frekans indüksiyon sinterleme ve 1450–1500 derece tungsten toz karışımı. 1550 derecede 90-180 dakika tavlamanın ardından toplam deformasyon yüzde 60'tan fazla olacak şekilde çok sayıda geçişle 5-15 mm kalınlığa kadar sıcak haddelenir. 1300 ila 1400 derecede 90 ila 150 dakika tavlama süresinden sonra mekanik işlem yapılır. Nihai tungsten hedef malzemesi, yalnızca performans açısından iyi olmakla kalmaz, aynı zamanda işlenmesi oldukça kolaydır ve pahalı ekipman gerektirmez. Yüzeydeki mekanik işlem miktarı yaklaşık 1,5 mm'dir.

Diğer tungsten hedef alaşımları mevcuttur.
Tungsten titanyum, tungsten titanyum alaşımı, tungsten bakır, tungsten manganez, tungsten nikel, vs.'den yapılmış hedefler.

Popüler Etiketler: tungsten püskürtme hedefi, tedarikçiler, üreticiler, fabrika, özelleştirilmiş, satın al, fiyat, teklif, kalite, satılık, stokta