Tantal Alaşımı - 111

Baoji Yusheng Metal esas olarak tungsten, molibden, tantal, niyobyum, zirkonyum, krom, titanyum, nikel, vanadyum, kobalt, hafniyum ve bunların alaşımlarını plakalar, levhalar, şeritler, folyolar, çubuklar, teller, tüpler ve diğer geleneksel olarak işlenmiş formlarda üretir. profillerin yanı sıra tekneler, potalar, püskürtme hedefleri, kaplama hedefleri, işlenmiş parçalar, yüksek sıcaklıklı fırın yalıtım ekranları, ısıtma elemanları, fırın gövdeleri (ısıtma fırınları, tavlama fırınları), korozyona dayanıklı ekipman ve diğer derinlemesine işlenmiş ürünler. Ürünler ağırlıklı olarak safir kristal fırın, vakum fırını, monokristal silikon fırın, yarı iletken iyon implantasyonu, metal tozu enjeksiyon kalıplama, vakum kaplama, yüksek sıcaklık fırını, cam elyafı, metalurji, petrokimya, havacılık, ilaç, tıbbi ekipman alanlarında kullanılmaktadır. gıda, denizcilik, otomotiv, inşaat, endüstriyel seramik, çevre koruma mühendisliği ve diğer endüstriler. Ürünlerimiz Amerika Birleşik Devletleri, Japonya, Almanya, Avustralya, Kanada, Güneydoğu Asya ve diğer bölgeler dahil olmak üzere tüm dünyada satıldı.

Tantal alaşımı T-111'de kırılganlıkla ilgili sorunları azaltmada alaşım bileşiminin etkileri

Tantal Alaşım - 111'da yaşlanma kırılganlığının temel nedenleri ve alaşım değişikliğinin etkisi araştırıldı. Sonuçlar, T-111'nin çok önemli bir tungsten ve hafniyum oranına sahip olduğunu ve bunun da yaklaşık 1040°C sıcaklıklarda yaşlandırmanın ardından -196}°C'de sünekliğin azalmasına neden olduğunu ortaya koyuyor. Bunun, tungstenin hafniyumun ayrışmasını teşvik etmesi nedeniyle olduğu keşfedildi hidrojen kırılganlığına duyarlılığı artıran tane sınırlarına. Düşük tungsten veya hafniyum konsantrasyonlarına sahip tantal alaşımları eskime kırılganlığı sergilemedi; yine de incelenmekte olan alaşımların çoğu T-111'den daha düşük dayanımlara sahiptir ve hidrojen kırılganlığına karşı hassastır.

820 ve 990°C'de oksijen, yaklaşık 0003 torr'luk bir basınçta sağlandı. Yöntem, tantal alaşımının öngörülebilir ve tekrarlanabilir oksijen katkısına izin verdi. (T-111). Katkılama reaksiyonunun sıcaklığa bağlılığına göre, T-111 kafesindeki oksijen çözeltisi, oksijen alımının ilk oranlarını düzenleyen şey olabilir. Tantal ve tungsten oksitler, hafniyum oksitlerin tantal veya tungstenden daha kararlı olmasına rağmen, muhtemelen alaşımdaki daha büyük miktarlarda tantal ve tungsten nedeniyle katkılı örneklerde hakimdir. Bununla birlikte, yüksek sıcaklıkta tavlama, diğer oksitlerin ve çözünmüş oksijenin oksidasyonunu teşvik ederek hafniyum oksit oluşumunu teşvik eder.