Ürünler Açıklama
Vanadyum hedefinin özellikleri
Vanadyum Hedefinin Şekli: Düz Yuvarlak Hedef, Düz Kare Hedef, Dönen Hedef, Özel Şekleli Özelleştirme
Vanadyum hedefinin saflığı:%99,%99.9
Vanadyum Hedefinin Boyutları: Müşteri gereksinimlerine göre işlenir
Vanadyum Hedefinin Hazırlık Süreci
1. Yatay bir kesme makinesi kullanarak saflık gereksinimlerini ve hedef boyutunu karşılayan vanadyum ingotlarını kesin. Önce 450-500 derecesinde ön ısıtma, ardından dövme toplam deformasyon oranını 70-80%'a dövün ve kontrol edin;
2. Dövme ile elde edilen vanadyum ingotu, tavlama sıcaklığı 400-500 derecesidir, tutma süresi 60-120 dakiktir ve daha sonra hava soğutma ile soğutulur;
3. Tavlama ile elde edilen vanadyum ingotunu yuvarlayın ve her geçişin presleme miktarını 0.
4. ANILAL Vanadyum Hedefi Boş, Tavlama Sıcaklığı 450-550 derecesi, tutma süresi 90-150 dakikadır ve gerekli yüksek saflık vanadyum hedef boşluğunu elde etmek için tekrar tavlama sonrasında su soğutma gerçekleştirilir.
Vanadyum hedeflerinin uygulanması
1.Semik iletken ve entegre devre üretimi
Alt tabaka malzemelerini üst katman malzemelerinin difüzyonundan korumak için bariyer katmanlarını biriktirmek için kullanılır, böylece cihazın güvenilirliğini ve performansını iyileştirir
2.solar hücreler
Güneş ince film hücrelerinde, vanadyum hedefleri, hücrelerin fotoelektrik dönüşüm verimliliğini artırmak için verimli ışık emme katmanları hazırlamak için kullanılır.
3.Flat-panel ekranları
Ekran efektlerini ve dayanıklılığı artırmak için düz panel ekran kaplamaları üretmek için kullanılır.
4.Elektronik ve Yarıiletken Alanları
Elektronik cihazlarda vanadyum hedefleri, elektronik cihazların iletkenliğini ve stabilitesini arttırmak için yüksek saflıkta metal filmler bırakmak için kullanılabilir.
Güneş enerjisi, düz panel ekranları, elektronik ve entegre devreler, arka panel metalizasyonu, optoelektronik ve diğer uygulamalar gibi yarı iletkenler alanlarında kullanılır.
